美荷两国曾同时发声，对中国独立研发的光刻机技术给予了强烈批评！ 去年9月那

美荷两国曾同时发声，对中国独立研发的光刻机技术给予了强烈批评！ 去年 9 月那阵子，美国和荷兰几乎是前后脚，对着咱自主研发的光刻机技术开炮。 美国那边的媒体跟约好了似的，一篇接一篇文章跳出来嚼舌根，核心就一个意思：中国这光刻机技术是 “抄” 的，靠的是逆向工程，根本没什么真正的创新；甚至还笃定 “这块儿中国注定要碰壁，走不远”。 这边美国的声音还没歇，荷兰 ASML 公司也跟着表态了。 作为全球光刻机领域的老大哥，ASML 一开口就带着股 “过来人” 的傲慢，说中国企业 “没法在短时间内赶上他们的水平”，还暗戳戳地说咱这所谓的技术突破 “不过是表面文章，撑不起真正的生产需求”。 这事儿最有意思的是时间点 —— 这些质疑声在 9 月 8 日前后集中爆发，铺天盖地的，好像生怕别人听不到。 结果转过天来，9 月 9 日，工信部就发布了重大技术装备推广目录。你猜目录里有啥？正好就有咱自己研发的氟化氩光刻机。 咱先说说这台机器的硬参数：波长 193 纳米，分辨率不低于 65 纳米，套刻精度不高于 8 纳米，主要用来生产 28 纳米及以上的芯片。 别觉得 28 纳米不是最先进的，要知道现在汽车、家电、工业控制这些领域，28 纳米芯片的需求量占了整个芯片市场的三成还多，而且这部分芯片的生命周期长，是实实在在的 “刚需品”。 明眼人都能看出来，美荷这波联合表态，表面上是在挑技术毛病，说咱的机器 “不行”“没创新”，骨子里根本就是战略围堵。 再说 ASML，他们说中国短时间内赶不上，可真要掰扯起来，这话里水分可不小。 几年前，咱国内连 DUV 光刻机的核心部件都还得靠进口，现在不仅能整出完整的氟化氩光刻机，还能把套刻精度做到 8 纳米以内。 而且咱这机器的核心部件都是国内企业一点点打磨出来的，这些都是有公开信息可查的，怎么到他们嘴里就成了 “没创新”？ 更别说实际应用了，咱的光刻机可不是摆着看的。 就拿中芯国际来说，去年用上咱自己的氟化氩光刻机后，28 纳米芯片的出货量直接暴涨了 40%，特斯拉上海工厂的汽车芯片，有一半都用的是中芯国际产的 28 纳米芯片。 要知道之前特斯拉还得从东南亚进口这部分芯片，现在直接用咱自己的，成本降了不少，交付速度也快了 —— 这就是实实在在的突破，哪是他们说的 “表面文章”？ 还有个事儿特别能说明问题，ASML 自己的供应链里，其实也离不开中国部件。 比如他们生产 193 纳米光刻机用的精密轴承，之前一直从咱洛阳 LYC 轴承采购，去年因为某些原因断了一阵货，ASML 的 193 纳米机型交付周期直接延长了 2 个月，订单排到了快两年后。 他们想靠质疑声打压咱，可真要是闹僵了，他们自己的供应链也得受影响。 说到底，美荷的联合发声，就是垄断者看到别人要打破垄断时的焦虑。 可事实不会骗人。工信部把氟化氩光刻机列入重大技术装备推广目录，就是对咱技术的认可；中芯国际用这台机器实现产能暴涨，就是对咱技术的最好检验。 未来咱在光刻机领域还会继续往前走，可能还会遇到更多质疑和围堵，但只要咱能稳住节奏，一步一个脚印突破核心技术，就能慢慢打破垄断。