ASML称中国不愧是隐藏绝活的老手！早已自研国产光刻机，中科院更是攻克DUV光源技术，可以生产3nm芯片啦！但就是产能一直提不上去，因为多倍曝光导致良率问题一直未解决，这可是造成三星、台积电不得不转战EUV技术的原因哦！如今中芯虽然靠多次曝光达成N＋2 10nm制程，但良率问题导致产能受限。想要在10nm及以下工艺突破，关键还是国产光刻机得拔高啊！低端市场早已被28纳米芯片占领三分之一，现在就等技术突破，揭开世界芯片格局的大幕！