荷兰政府拟提议限制浸没式DUV光刻机的出口、进一步收紧出口管制 当地时间3月8日，荷兰外贸与发展合作大臣利斯耶·施赖恩马赫尔在给议员的一封信中说，荷兰阿斯麦公司(ASML )的总部正准备对某些芯片制造设备进行限制，原因是美国正施压限制中国获得关键半导体技术。 一项新的提案将限制所谓的浸没式DUV光刻产品的出口，这是对最先进的光刻机已经存在的限制，而这种光刻机对生产世界上最先进的芯片至关重要。这些规定预计将在夏季之前公布。信中还说:“出于国家和国际安全考虑，荷兰认为有必要尽快控制这种技术”。 对此，荷兰阿斯麦公司(ASML )回应表示，额外的出口管制只适用于“最先进的”工具，由于没收到确切定义信息，ASML理解为NXT:2000i及后续的系统。 对于半导体设备出口限制。这些新的出口管制主要针对先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积和浸没式光刻工具。 由于这些即将出台的法规，ASML将需要申请出口许可证才能装运最先进的浸没式DUV系统。这些控制措施要转化为立法并生效还需要时间。 基于今天的公告、我们对荷兰政府许可政策的预期以及目前的市场形势，我们预计这些措施不会对我们发布的2023年财务前景或去年11月投资者日期间宣布的长期情况产生重大影响。 在这方面，重要的是要考虑到额外的出口管制并不适用于所有的浸入式光刻工具，而只适用于所谓的“最先进的”。虽然ASML没有收到任何关于“最先进”的确切定义的额外信息，但ASML将其解释为“临界沉浸式”，ASML在我们的资本市场日中将其定义为TWINSCAN NXT:2000i和后续的沉浸式系统。 此外，ASML指出，主要关注成熟节点的客户可以使用不太先进的浸入式光刻工具。最后，ASML的长期设想主要是基于全球长期需求和技术趋势，而不是详细的位置假设。值得提醒的是，自2019年以来，阿斯麦的EUV工具的销售已经受到限制。