美国智库发布报告：中国半导体光刻技术进展滞后，还远远落后于荷兰阿斯麦（ASML）和日本尼康（Nikon）。但华为内部可能正在开发的高端机台并未被计入其中，目前美国人唯一搞不清的就是华为内部到底有没有高端光刻机。23年华为出了国产七纳米晶片，曾令美国大为震惊，由于缺乏先进光刻设备，几年过去了还是停滞在7纳米。