ASML和美国之间的较量越演越烈，光刻机技术成为了全球科技竞争的焦点。2024年4月，美国要求ASML停止对中国市场上已售出的光刻机提供售后服务，理由是“国家安全”。
ASML的CEO温宁克反应很强烈，表示中国市场占ASML全球营收的36.1%，比美国、韩国和加拿大加起来还要多，停止提供售后服务根本“不可能”。要知道，2023年ASML在中国的销售额已经达到了82亿欧元，日均收入达到2200万欧元，这么大一块蛋糕，美国就让你轻松放弃？这场争斗看上去像是美国试图通过对ASML施压来限制中国在半导体领域的发展，但结果似乎有些出乎意料。ASML既然能在中国赚得盆满钵满，又怎么可能轻易放弃这个市场？2024年9月，荷兰政府宣布将重新开放部分DUV光刻机的出口，包括那些能生产7nm、5nm芯片的型号。荷兰首相私下表示，美国让荷兰为了所谓的“国家安全”牺牲36%的市场份额，显然是不合理的。荷兰ZF甚至直接将ASML的DUV光刻机从“敏感商品清单”中移除，这意味着以后对中国的光刻机出口，荷兰不再需要审批。荷兰ZF的做法是在表面上配合美国，但实际上却通过放宽对中国出口光刻机的限制，为中国的半导体行业提供了不少技术支持。要知道，荷兰ZF的做法不仅仅关乎技术，更关乎商业利益。ASML的光刻机对于全球芯片产业至关重要，荷兰不可能轻易失去这个巨大的市场。说白了，荷兰ZF有自己的算盘，背后可不止是表面上的“顺从”那么简单。
与此同时，ASML在北京的维修中心扩建了数亿欧元，不仅可以修复EUV和DUV光刻机的全流程，还能提供24小时的服务。ASML表示，这一扩建将使服务响应速度提高50%，客户满意度提高40%。看似是在向中国市场示好，背后说明中国在半导体产业的技术需求和发展潜力实在是太大了，ASML如果不加大投入，就有可能错失这个市场。除此之外，中国自己的光刻机技术也取得了重大突破。上海微电子的28nm浸润式光刻机已经实现了量产，而且在封装光刻机领域，中国的技术已经超越了ASML。更令人兴奋的是，中国在光刻机的核心部件，如光源、物镜等方面也取得了显著进展。有预测指出，到2027年，中国可能实现14nm光刻机的量产，而到2030年，甚至有可能赶上ASML的EUV技术。从ASML的断供EUV到如今ASML主动支持中国的技术发展，我们可以看到，中国半导体产业的崛起已经不可阻挡。正如一些观察者所言，中国的创新精神和技术进步，完全不受外部封锁和打压的影响。我们不难发现，ASML和美国的对抗背后，实际上是全球科技竞争的一部分。中国通过技术进步和创新，正一步步突破外部的封锁，走向科技强国的未来。而在这场博弈中，ASML的选择不仅仅关乎企业自身的利益，更关乎全球科技格局的变化。
